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半导体区域用于配制硅片清洗剂

过氧化氢等

主要用于去除硅晶圆表层微粒及金属离子

过氧化氢、盐酸、硫酸、硝酸等

地址板生产中使用的无机清洗剂

盐酸、硫酸、硝酸、磷酸、氢氟酸、冰醋酸、氢氧化钠、氢氧化钾、无水碳酸钠等

地址板生产中使用的蚀刻剂

氟化氢、氟化铵、氟化氢铵、六偏磷酸钠等

地址板生产中使用的有机清洗剂

甲醇、无水乙醇、丙酮、异丙醇、甲苯、二甲苯、石油醚、乙酸乙酯、草酸二乙酯等

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